RunwayML是一個(gè)基于人工智能的平臺(tái)，旨在為設(shè)計(jì)師、藝術(shù)家和創(chuàng)意人士提供簡單的方式來探索和應(yīng)用機(jī)器學(xué)習(xí)技術(shù)。該平臺(tái)提供了多種功能，包括根據(jù)文本生成圖像、根據(jù)圖像生成風(fēng)格化變體、圖像延展外繪、根據(jù)文本生成3D貼圖紋理以及視頻局部無損放大等。

Runway官網(wǎng)入口網(wǎng)址：https://runwayml.com/

RunwayML的官方網(wǎng)站是https://runwayml.com/ ，用戶可以通過該網(wǎng)站注冊(cè)并享受一定的免費(fèi)體驗(yàn)額度。此外，RunwayML還提供了iOS應(yīng)用程序，可以在App Store下載。

RunwayML的Gen-2工具已經(jīng)全面開放，能夠生成長達(dá)18秒的視頻。用戶可以通過Runway的儀表板快速訪問其創(chuàng)意套件中的Gen-1和Gen-2工具。

盡管RunwayML在某些方面表現(xiàn)出色，但也有用戶對(duì)其效果表示失望，認(rèn)為其動(dòng)畫生成工具存在問題，如圖像不斷變形、顏色變化以及簡單的文本提示會(huì)變得復(fù)雜。

總的來說，RunwayML是一個(gè)強(qiáng)大的AI工具平臺(tái)，適用于各種創(chuàng)意和設(shè)計(jì)需求，但用戶在使用過程中可能需要注意其某些功能的局限性。